光学・電子産業において、最高純度は品質と機能性に不可欠です。微小な粒子や原子レベルの残留物でさえ、重大な誤差や品質低下、故障を引き起こす可能性があります。高純度洗浄は、微細な不純物さえも確実に除去し、プロセスの信頼性と一貫した高品質製品を保証します。SurTecでは、すべてのHP製品の製造工程において厳格な監視を実施しています。
HP製品は、製造工程における特別なプロセス管理により、ホウ酸塩、リン酸塩、ケイ酸塩を含んでいません。
洗浄後のHIO（水素誘発ガス放出）残留物なし
浸漬、噴霧、圧力サイクルプロセスに適し、モジュラー式精密洗浄システムに最適
✔ 酸化残留物の除去において卓越した効率性
✔ アルミニウム基材に対して最高の効果を発揮
✔ 表面に特に優しい
✔ 鋼、軽金属（例：アルミニウム）、非鉄金属（例：真鍮）からなる混合基材の同時洗浄が可能
✔ 圧力循環プロセスには不向き
✔ 銅、銅合金、無電解ニッケルめっき部品などの敏感な材料の効果的な洗浄
✔ 有機・無機汚れを確実に除去、特殊材料上でも効果を発揮
✔ 腐食および酸化残留物の効率的な除去
